立式高真空時效爐是一種先進實驗設備，適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設備。

臥式高真空時效爐主要用于半導體元器件及電力整流器件的燒結工藝，可進行真空燒結，氣體保護燒結及常規燒結。是半導體專用設備系列中一種新穎的工藝裝備，它設計構思新穎，操作方便，結構緊湊，在一臺設備上可完成多個工藝流程。也可用于其他領域內的真空熱處理，真空釬焊等工藝。

臥式真空氫氣爐作為連續化生產設備、適合注射、流延、干壓、等靜壓、等多種成型工藝的排膠和燒結之用，主要應用于PTC、NTC、MLCC等電子元件、陶瓷插芯、陶瓷基板、陶瓷器件、陶瓷手機外殼、電感粉體、NFC鐵氧體磁薄片的一體化燒結工藝。

臥式高真空釬焊爐是標準節能型周期式作業爐，超節能結構，采用全纖維爐膛結構，節電30%。生產采用復合式高鋁瓷釘組，臺車防撞擊密封磚，自動密封臺車和爐門